一种等离子清洗系统
授权
摘要
本实用新型提出了一种等离子清洗系统，主要包括：壳体、反应腔、RF射频电源、RF调谐网络、真空泵和配电箱，其中，所述壳体包括：上壳体、下壳体和侧壳体，所述反应腔设置于下壳体上端面，所述反应腔包括：上腔体和下腔体，在所述侧壳体内设置有升降装置，所述上腔体连接于升降装置并可随升降装置升降，所述反应腔内设置有电极板组件，所述电极板组件与RF射频电源、RF调谐网络之间电连接，所述真空泵与反应腔之间管道连接。通过上述方式，集成化的设计，占地空间较小，适合于与大的流水线对接，实现在线等离子清洗。
基本信息
专利标题 ：
一种等离子清洗系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123279002.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-24
授权号 ：
CN216679376U
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
华徐浩
申请人 ：
达格测试设备（苏州）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市高新区建林路666号出口配套工业园7栋
代理机构 ：
广州博联知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙倩倩
优先权 ：
CN202123279002.3
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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