一种具有多层复合结构的TaTiN多层薄膜的制备方法及其薄...
实质审查的生效
摘要
本发明的目的在于设计一种具有多层复合结构的TaTiN多层薄膜的制备方法及其薄膜的应用，利用Ta、Ti之间优秀的相容性减少界面处的晶界，减少了晶体中电子散射现象，降低了薄膜的电阻，使双极板在具有强耐蚀性的同时兼具优秀的导电性能。
基本信息
专利标题 ：
一种具有多层复合结构的TaTiN多层薄膜的制备方法及其薄膜的应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114369795A
申请号 ：
CN202210050039.9
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2022-01-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
涂溶闵睿章嵩李其仲
申请人 ：
中山市气相科技有限公司;中山市武汉理工大学先进工程技术研究院;化学与精细化工广东省实验室潮州分中心
申请人地址 ：
广东省中山市火炬开发区祥兴路6号数贸大厦南冀3楼305卡（住所申报）
代理机构 ：
中山市粤捷信知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张谦
优先权 ：
CN202210050039.9
主分类号 ：
C23C14/06
IPC分类号 ：
C23C14/06 C23C14/16 C23C14/35 H01M8/0228
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/06
申请日 : 20220117
申请日 : 20220117
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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