复合结构吸气剂薄膜及其制备方法
授权
摘要

本公开提供一种复合结构吸气剂薄膜及其制备方法,该方法包括提供一基底;以第一吸气剂合金为靶材,采用磁控溅射法于基底上沉积磁控溅射层;及以第二吸气剂合金为靶材,采用真空蒸发镀膜法于磁控溅射层上沉积真空蒸镀层,得到复合结构吸气剂薄膜。本公开通过利用不同的镀膜方法,构建出具有微观梯度形貌设计的复合结构吸气剂薄膜,使所得复合结构吸气剂薄膜可同时满足良好膜层力学性能、高孔隙率、高吸气容量、高吸气速率和可低温激活等特点,具有良好的工业应用前景。

基本信息
专利标题 :
复合结构吸气剂薄膜及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110863183A
申请号 :
CN201911198657.2
公开(公告)日 :
2020-03-06
申请日 :
2019-11-29
授权号 :
CN110863183B
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
李长安高峰李晓刚聂鹏胡双丽
申请人 :
中山凯旋真空科技股份有限公司
申请人地址 :
广东省中山市横栏镇环镇北路27号
代理机构 :
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 :
司丽琦
优先权 :
CN201911198657.2
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35  C23C14/32  C23C14/14  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2022-04-08 :
授权
2020-03-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20191129
2020-03-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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