微调过程模型的方法
实质审查的生效
摘要

本发明中披露了构造过程模型的方法,该过程模型用于根据在不同处理条件下产生的图案模拟光刻术的产品的特性。所述方法使用该被模拟的特性的变化与被测量的特性的变化之间的偏差以调整该过程模型的参数。

基本信息
专利标题 :
微调过程模型的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114415478A
申请号 :
CN202210108239.5
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2018-01-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
冯牧M·F·沙伊甘萨拉克朱典文郑雷武拉斐尔·C·豪厄尔王祯祥
申请人 :
ASML荷兰有限公司
申请人地址 :
荷兰维德霍温
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
胡良均
优先权 :
CN202210108239.5
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G05B19/418  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20180124
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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