使用预测模型的过程监控和调节
实质审查的生效
摘要

描述一种用于监测制造过程的性能的方法。所述方法包括:接收传递与由所述制造过程所产生的衬底的几何形状有关的信息的一个或更多个输入信号;和利用预测模型、基于所述一个或更多个输入信号,确定所述制造过程中的变化。也描述一种用于预测与制造过程相关联的衬底几何形状的方法。所述方法包括:接收输入信息,所述输入信息包括衬底的几何形状信息和制造过程信息;和使用机器学习预测模型、基于所述输入信息,预测输出衬底几何形状。所述方法还包括调节所预测的输出衬底几何形状。所述调节包括:将所述输出衬底几何形状与相对应的实体衬底测量结果和/或来自不同的非机器学习预测模型的预测结果进行比较;基于所述比较来产生损失函数;以及优化所述损失函数。

基本信息
专利标题 :
使用预测模型的过程监控和调节
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114556219A
申请号 :
CN202080068272.9
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2020-09-22
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
顾宁任利平黄奎钧伍剑
申请人 :
ASML荷兰有限公司
申请人地址 :
荷兰维德霍温
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
王益
优先权 :
CN202080068272.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200922
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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