应用于缺陷高度测量的方法及装置
授权
摘要

本发明涉及一种应用于缺陷高度测量的方法及装置,其中,方法包括将相机对准待检测缺陷;带动所述相机沿垂直于所述待检测缺陷的方向单向移动,并控制所述相机每移动系统预设间隔距离就进行一次拍摄,以拍摄到的各张图片中的各相邻像素点之间灰度差值的绝对值的总和与所述相机的位移距离为依据,获取所述待检测缺陷的高度。通过本发明的方法及对应的装置利用拍摄到的缺陷的照片的灰度差值的差异与相机的移动距离来获得缺陷高度,可基于普通相机也能满足对缺陷高度进行检测的需求,有效降低检测成本,提高适应性,且保障了检测的精度及检测的效率,有效控制产品的质量。

基本信息
专利标题 :
应用于缺陷高度测量的方法及装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114152626A
申请号 :
CN202210115378.0
公开(公告)日 :
2022-03-08
申请日 :
2022-02-07
授权号 :
CN114152626B
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
兰海燕康时俊沈曙光
申请人 :
盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司;盛吉盛精密技术(宁波)有限公司
申请人地址 :
浙江省宁波市鄞州区云龙镇石桥村
代理机构 :
上海市汇业律师事务所
代理人 :
王函
优先权 :
CN202210115378.0
主分类号 :
G01N21/88
IPC分类号 :
G01N21/88  G06T7/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
法律状态
2022-05-24 :
授权
2022-03-25 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/88
申请日 : 20220207
2022-03-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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