本申请提供一种镀膜装置及清洗工艺，涉及材料表面处理技术领域。镀膜装置包括装置本体、工件转架、弧靶、挡板、辅助弧靶、脉冲偏压电源、脉冲弧电源、阳极电源及弧电源；工件转架转动设于装置本体中，弧靶及辅助弧靶分别设于装置本体内，且位于工件转架的同一侧，辅助弧靶位于弧靶的上方，挡板设于弧靶朝向工件转架的一侧，脉冲偏压电源与工件转架连接，脉冲弧电源连接弧靶，阳极电源与弧电源分别与辅助弧靶连接，脉冲偏压电源与脉冲弧电源脉冲同步。本申请镀膜装置辅助弧靶既可作为辅助阳极，还可作为正常的电弧靶沉积靶材使用，节省了镀膜装置内部零件的设置，降低了成本，提高了镀膜装置空间的利用率，脉冲同步可以在短时间对基底进行清洗。