一种带孔洞钝化层的GaN基激光二极管结构及制造方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种带孔洞钝化层的GaN基激光二极管结构及制造方法,包括依次层叠设置的N电极、n型GaN衬底、N波导层、发光活性层、P波导层、P型电子阻挡层和钝化层;P型电子阻挡层的上部表面凸出设置有脊条,脊条包括P覆盖层、P接触层和P接触电极层;钝化层包括第一钝化层和第二钝化层,第一钝化层设置在P型电子阻挡层的上表面,位于所述脊条的两侧,第一钝化层的靠近脊条的一侧设置有切角,使得第一钝化层与脊条之间形成切角空间,脊条两侧的切角对称设置;切角的上端部与脊条之间具有间隙,第二钝化层置于第一钝化层的上表面,在第二钝化层上表面及脊条上还设有P电极。其可形成较高光限制效果,降低对绝缘材料的折射率要求。
基本信息
专利标题 :
一种带孔洞钝化层的GaN基激光二极管结构及制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114552386A
申请号 :
CN202210167922.6
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2022-02-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李宇翔
申请人 :
安徽格恩半导体有限公司
申请人地址 :
安徽省六安市金安区三十铺镇六安大学科技园A1楼
代理机构 :
北京文慧专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
戴丽伟
优先权 :
CN202210167922.6
主分类号 :
H01S5/20
IPC分类号 :
H01S5/20 H01S5/32 H01S5/323 H01S5/028
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01S 5/20
申请日 : 20220223
申请日 : 20220223
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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