超表面及其设计方法、装置及电子设备
实质审查的生效
摘要

本申请提供了一种超表面及其设计方法、装置及电子设备,属于光学技术领域。其中,该超表面包括基底和周期性排列在所述基底至少一侧的纳米结构;其中,所述纳米结构的等效折射率平均值与所述基底的折射率的差值或差值的平均值小于或等于目标值。本申请实施例提供的超表面通过调控纳米结构等效折射率平均值和基底折射率的差值或差值的平均值小于目标值提高了超表面的透过率。本申请实施例提供的超表面设计方法,通过配置纳米结构类型、周期和高度,计算纳米结构等效折射率平均值和基底折射率的差值或差值的平均值,最后选择差值或差值的平均值最小的纳米结构配置,从而得到透过率高于现有技术的超表面。

基本信息
专利标题 :
超表面及其设计方法、装置及电子设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114325886A
申请号 :
CN202210169285.6
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2022-02-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
郝成龙谭凤泽朱瑞朱健
申请人 :
深圳迈塔兰斯科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区新安街道上合社区33区大宝路83号美生慧谷科技园秋谷8栋6楼
代理机构 :
深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张金香
优先权 :
CN202210169285.6
主分类号 :
G02B1/00
IPC分类号 :
G02B1/00  G02B3/08  G02B1/11  G02B27/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件;用于光学元件的光学涂层
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/00
申请日 : 20220223
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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