一种曝光抗蚀剂改性工艺及液相微纳加工设备
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种曝光抗蚀剂改性工艺及液相微纳加工设备，所述曝光抗蚀剂改性工艺包括制备聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜，对聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜的极化通路进行连接，对带有待加工图案的聚甲基丙烯酸甲酯薄膜进行曝光，对加工图案的显影以及定影，将定影之后的带有加工图案的PMMA薄膜，用氮气枪吹出表面的水分，完成PMMA薄膜的改性工作。本发明在对PMMA改性时，使用本发明的改性技术—电压改性，达到或等同了电子束流曝光的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种曝光抗蚀剂改性工艺及液相微纳加工设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114545745A
申请号 ：
CN202210191663.0
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2022-03-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王德强曾德林方绍熙黄周昶
申请人 ：
重庆邮电大学;中国科学院重庆绿色智能技术研究院
申请人地址 ：
重庆市南岸区南山街道崇文路2号重庆邮电大学
代理机构 ：
北京汉迪信和知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
赵景焕
优先权 ：
CN202210191663.0
主分类号 ：
G03F7/26
IPC分类号 ：
G03F7/26 G03F7/32 G03F7/004
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/26
申请日 : 20220301
申请日 : 20220301
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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