本发明公开一种传送带清洁装置和硅片分选系统，涉及半导体技术领域，在硅片分选系统在剔除残次品硅片的过程中，翻转机构带动连接件从第一位置运动至第二位置时带动第一清洁机构的第二端与第二清洁机构的第四端运动，从而驱动第一端对第一传送带进行清洁，第三端对第二传送带进行清洁，在清洁过程中，不需要增加额外的动力源，只是借助翻转机构的翻转动作就可以持续地分别对第一传送带和第二传送带进行点动清洁，从而避免第一传送带/第二传送带上的颗粒粉尘对后续运输的硅片造成损伤或二次污染，提高硅片的出厂良品率。能够提高清洁效率，避免由于清洁传送带而导致硅片分选系统停工的问题，进一步提高硅片的分选效率。