本发明公开了一种光学临近效应修正模型的获取方法及系统，其包括以下步骤：建立初始模型；设置测试图形，并在所述测试图形的一侧设置监控图形，且所述测试图形和所述监控图形之间具有间隙；获取光刻机的曝光阈值范围；调整所述初始模型中的参数，修正所述测试图形和所述监控图形，并获取所述测试图形和所述监控图形的光强分布图，以及所述测试图形和所述监控图形在晶圆上的模拟图形；以及将所述间隙的光强值小于曝光阈值范围，且所述模拟图形与目标图形拟合度最高时的初始模型，作为光学临近效应修正模型。通过本发明提供的一种光学临近效应修正模型的获取方法及系统，可提高半导体制程的准确率。