石墨层间化合物的制造方法
专利权的终止专利权有效期届满
摘要
本发明提供一种石墨层间化合物的制造方法，将石墨放在液态氧化介质中浸渍处理，形成石墨层间化合物后，回收该氧化介质，在回收的酸中再添加新的液态氧化介质，用以新石墨的浸渍处理。本发明的优点是，针对已有技术中存在粘度高，操作性差，改善浸渍处理的操作性，而且浸渍处理后的液态氧化介质不必废弃处理，无需大量的中和剂。这种石墨层间化合物用作密封垫片，衬板等。
基本信息
专利标题 ：
石墨层间化合物的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85104942A
申请号 ：
CN85104942.7
公开（公告）日 ：
1986-12-31
申请日 ：
1985-06-27
授权号 ：
CN85104942B
授权日 ：
1987-09-02
发明人 ：
西田达也藤井义胜藤田淳村越猛山田和夫
申请人 ：
日立化成工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京都新宿区西新宿二丁目1番1号
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
全菁
优先权 ：
CN85104942.7
主分类号 ：
C01B31/04
IPC分类号 ：
C01B31/04
法律状态
2001-02-14 ：
专利权的终止专利权有效期届满
1988-03-23 ：
授权
1987-09-02 ：
审定
1986-12-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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