正性辐射线敏感涂层液
专利权的终止专利权有效期届满
摘要
本发明描述了一种正性辐射线敏感的涂层液，其中含有辐射线敏感的化合物(例如，1，2-萘醌二叠氮化物)或者辐射线敏感的化合物的组合物(例如由至少具有一个可以被酸裂解的C-O-C键的化合物，与辐射线能使之形成强酸的化合物组成的)，以及有机溶剂或者有机溶剂混合物作为基本成分。所说的溶剂混合物，至少大部分是由1，2-丙二醇的单C1烷基醚至单C4烷基醚所组成。与已知的正性光致抗蚀溶液相比，这个溶液的毒性小，具有较好的涂层均化性。
基本信息
专利标题 ：
正性辐射线敏感涂层液
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85105070A
申请号 ：
CN85105070.0
公开（公告）日 ：
1986-12-31
申请日 ：
1985-07-03
授权号 ：
CN1030113C
授权日 ：
1995-10-18
发明人 ：
汉斯·鲁克特拉尔夫·奥兰马克
申请人 ：
赫彻斯特股份公司
申请人地址 ：
联邦德国法兰克福/梅因80
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
俞辉君
优先权 ：
CN85105070.0
主分类号 ：
G03C1/49
IPC分类号 ：
G03C1/49
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03C
照相用的感光材料；照相过程，例如，电影、X射线、彩色、或者立体照相过程；照相的辅助过程
G03C1/00
感光材料
G03C1/005
卤化银乳剂；它的制备；它的物理处理；向其中掺入补加剂
G03C1/49
印出和光显影乳剂
法律状态
2001-02-21 ：
专利权的终止专利权有效期届满
1995-10-18 ：
授权
1988-10-05 ：
实质审查请求
1986-12-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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