通过反应性沉积形成致密涂层
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
形成涂覆的基材的方法可以基于将来自流体的材料沉积到基材上，其中涂覆材料是由该流体内的反应形成的。在处理室(300)中，产物材料可以在由从经由光入射端口(320)供应的辐射束吸收的光子能量驱动的反应中形成。具有产物流的流体可以经由连接到喷嘴(308)的气体/蒸气入口管道(306)引导至基材并通过排放端口(322)排出。基材可以经由，例如臂(318)相对于流体移动，所述臂(318)平移基材架(316)通过产物流。涂覆材料可以以密度为完全致密化涂覆材料密度的65％至95％在非常高水平的涂层均匀性下形成。
基本信息
专利标题 ：
通过反应性沉积形成致密涂层
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101119807A
申请号 ：
CN200580048103.4
公开（公告）日 ：
2008-02-06
申请日 ：
2005-12-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
夏夫库马·奇拉沃卢迈克尔·E·蔡平
申请人 ：
内诺格雷姆公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
宋莉
优先权 ：
CN200580048103.4
主分类号 ：
B05D1/02
IPC分类号 ：
B05D1/02 B05D1/34 B05D1/42 C23C16/02 C23C16/455 C23C16/48 C23C14/02
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05D
对表面涂布流体的一般工艺
B05D1/00
涂布液体或其他流体的工艺
B05D1/02
用喷射方法
法律状态
2011-02-16 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101068178663
IPC(主分类) : B05D 1/02
专利申请号 : 2005800481034
公开日 : 20080206
号牌文件序号 : 101068178663
IPC(主分类) : B05D 1/02
专利申请号 : 2005800481034
公开日 : 20080206
2008-04-02 ：
实质审查的生效
2008-02-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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