新茚并噻唑衍生物及其制备方法
视为撤回的专利申请
摘要
本发明提供了茚并噻唑衍生物及其制备方法。此茚并噻唑衍生物由下式代表：式中各取代基见说明书。另外，本发明还提供了由上面式(Ia)代表的化合物的互变异构体，其中除R3限定为氢原子外，所有符号如上定义。
基本信息
专利标题 ：
新茚并噻唑衍生物及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN87100171A
申请号 ：
CN87100171.3
公开（公告）日 ：
1988-01-20
申请日 ：
1987-01-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
辻正义中川晃井上寿孝八谷照美田上义洋池末公一齐田胜口威伸青木哲雄佐藤宽伸野田宽治
申请人 ：
久光制药株式会社
申请人地址 ：
日本佐贺县
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
唐跃
优先权 ：
CN87100171.3
主分类号 ：
C07D277/60
IPC分类号 ：
C07D277/60 A61K31/41
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D277/00
杂环化合物，含有1,3-噻唑或氢化1,3-噻唑环
C07D277/60
和碳环或环系稠合
法律状态
1992-01-15 ：
视为撤回的专利申请
1988-01-20 ：
公开
1987-09-16 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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