防止形成聚合物结壁的方法及其使用的聚合设备
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种在具有烯类双键单体的聚合反应过程中，防止聚合反应器内形成聚合物结壁的方法，其中所述聚合反应在其内壁表面事先涂有水基涂层溶液然后经干燥形成涂层的聚合反应器中进行，该水基涂层溶液含有组分(A)一种水溶性阴离子染料和组分(B)从水不溶性的阳离子染料和水不溶性的含氮有机化合物中选出的至少一种化合物，涂层溶液的pH为7或7以下。本方法可以在广泛的具有烯类双键的单体聚合反应时，有效防止形成聚合物结壁。
基本信息
专利标题 ：
防止形成聚合物结壁的方法及其使用的聚合设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1040206A
申请号 ：
CN89105545.2
公开（公告）日 ：
1990-03-07
申请日 ：
1989-08-09
授权号 ：
CN1035057C
授权日 ：
1997-06-04
发明人 ：
清水敏秀金子一郎渡边干雄
申请人 ：
信越化学工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
于燕生
优先权 ：
CN89105545.2
主分类号 ：
C08F2/00
IPC分类号 ：
C08F2/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F2/00
聚合工艺过程
法律状态
1999-09-29 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1997-06-04 ：
授权
1991-10-30 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1990-03-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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