X射线图像变换片和辉尽性荧光体及其制造方法
公开
摘要
对X射线图象变换片的改进及其制造方法，该方法包括：通过灰化去除荧光物质中所含的粘结剂以改进发光强度；烧结由石英片叠成的半成品以解决X射线图象变换片的翘曲，为了把荧光体原材料中所含的三价铕全变成两价铕最终改进发光强度在还原气体中至少加入氦；使用BaCl2-xBaBr2-yCaSizEu2+等络合物来增加650～850nm波长范围内的发光强度，以便能使用半导体激光器作激励光。
基本信息
专利标题 ：
X射线图像变换片和辉尽性荧光体及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1073533A
申请号 ：
CN92104857.2
公开（公告）日 ：
1993-06-23
申请日 ：
1989-03-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
平野弘岩濑信博越野长明
申请人 ：
富士通株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
范本国
优先权 ：
CN92104857.2
主分类号 ：
G03B42/02
IPC分类号 ：
G03B42/02 C09K11/07
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B42/00
利用光波以外的波获得记录；这类记录利用光学装置的显像
G03B42/02
利用X射线
法律状态
1993-06-23 ：
公开
1993-03-17 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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