用于选择性光学图形补偿的方法与系统
授权
摘要
本发明公开了一种制备光刻掩模的方法与系统。该方法包括：确定第一接触区域，处理与第一接触区域相关联的信息，以及至少基于与第一接触区域相关联的信息来确定第一光学补偿是否应被应用于第一接触区域。此外，该方法包括：如果第一光学补偿应当应用于第一接触区域，则将第一光学补偿应用于第一接触区域，处理与第一光学补偿相关联的信息，确定第一光学补偿和第二光学补偿或第二接触区域之间的第一距离，处理与第一距离相关联的信息，以及至少基于与第一距离有关的信息来调整第一光学补偿。
基本信息
专利标题 ：
用于选择性光学图形补偿的方法与系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1940714A
申请号 ：
CN200510030306.2
公开（公告）日 ：
2007-04-04
申请日 ：
2005-09-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郭贵琦
申请人 ：
中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请人地址 ：
201203上海市浦东新区张江路18号
代理机构 ：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
王怡
优先权 ：
CN200510030306.2
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00 G03F1/14 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2010-12-15 ：
授权
2007-05-30 ：
实质审查的生效
2007-04-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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