一种钙钛矿结构镧锶锰氧半金属薄膜的制备方法
专利权的终止
摘要
本发明是一种采用新型渠道火花烧蚀法(Channel Spark Ablation，CSA)制备钙钛矿结构镧锶锰氧(La0.7Sr0.3MnO3，LSMO)薄膜的方法。本发明以LaAlO3(001)单晶基片为基板，在700－850℃的基板温度下通过渠道火花烧蚀技术，利用La0.7Sr0.3MnO3陶瓷靶在适当的氧气压、基板温度、脉冲电流和脉冲电压下，生长具有高度c轴取向性的La0.7Sr0.3MnO3薄膜。所制备的薄膜具有高于室温的居里温度，在室温下具有良好的电学性能和铁磁性能。本发明方法所获得的薄膜在自旋电子器件中具有良好的应用潜能。
基本信息
专利标题 ：
一种钙钛矿结构镧锶锰氧半金属薄膜的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1757785A
申请号 ：
CN200510030773.5
公开（公告）日 ：
2006-04-12
申请日 ：
2005-10-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张群黄丽华中一
申请人 ：
复旦大学
申请人地址 ：
200433上海市邯郸路220号
代理机构 ：
上海正旦专利代理有限公司
代理人 ：
姚静芳
优先权 ：
CN200510030773.5
主分类号 ：
C23C14/00
IPC分类号 ：
C23C14/00 C23C14/06 C23C14/28 C23C14/54 C23C14/58
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
法律状态
2011-12-28 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101161909775
IPC(主分类) : C23C 14/00
专利号 : ZL2005100307735
申请日 : 20051027
授权公告日 : 20080507
终止日期 : 20101027
号牌文件序号 : 101161909775
IPC(主分类) : C23C 14/00
专利号 : ZL2005100307735
申请日 : 20051027
授权公告日 : 20080507
终止日期 : 20101027
2008-05-07 ：
授权
2006-06-07 ：
实质审查的生效
2006-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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