镧钙锰氧薄膜的制备方法
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种镧钙锰氧薄膜(La0.67Ca0.33MnO3)的制备方法，该方法对镧钙锰氧薄膜采用激光辐照退火；该制备方法由下述步骤组成：清洗基片；将清洗干净的基片进行干燥后置于真空室内的硅板加热器上；抽真空至4×10－4～4×10－5Pa；硅板加热器升温至450℃～ 600℃；同时真空室内真空保持在4×10－4Pa～4×10－5Pa；向真空室内充入氧气，使真空室内的流动氧压保持在5～80Pa；利用准分子激光轰击La0.67Ca0.33MnO3靶材；薄膜沉积结束后，硅板在2～5分钟内降至室温；最后激光辐照退火：将制备的薄膜置于旋转平台上，平台以10度～30度/S的转速旋转，在60～240秒之内将激光功率密度逐渐调节到40～50W/cm2，功率密度保持10～300秒后，在120～240秒之内将激光功率密度逐渐降至零。
基本信息
专利标题 ：
镧钙锰氧薄膜的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1804108A
申请号 ：
CN200610001065.3
公开（公告）日 ：
2006-07-19
申请日 ：
2006-01-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
蒋毅坚常雷
申请人 ：
北京工业大学
申请人地址 ：
100022北京市朝阳区平乐园100号
代理机构 ：
北京思海天达知识产权代理有限公司
代理人 ：
张慧
优先权 ：
CN200610001065.3
主分类号 ：
C23C14/28
IPC分类号 ：
C23C14/28 C23C14/06 C23C14/02 C23C14/54
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
法律状态
2014-03-12 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101577931017
IPC(主分类) : C23C 14/28
专利号 : ZL2006100010653
申请日 : 20060118
授权公告日 : 20080312
终止日期 : 20130118
号牌文件序号 : 101577931017
IPC(主分类) : C23C 14/28
专利号 : ZL2006100010653
申请日 : 20060118
授权公告日 : 20080312
终止日期 : 20130118
2008-03-12 ：
授权
2006-09-13 ：
实质审查的生效
2006-07-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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