紫光发射增强的氧化锌薄膜的制备方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种紫光发射增强的氧化锌薄膜的制备方法，采用磁控溅射方法制备，其步骤包括：用99.99％或纯度更高的金属锌掺入光谱纯的金属镉作为阴极的溅射锌靶，阳极和真空室相连，将溅射锌靶焊接到紫铜底板上；将清洗后的基底装在基底夹具上，活动挡板置于所述的基底夹具与所述的溅射锌靶之间；关好各气阀后抽真空，直至真空度达3×10－3Pa以上；通入氩气和氧气后，真空度范围为0.1Pa～0.5Pa；溅射电源功率选择范围为100W～500W，开直流电源起辉预溅射5～10分钟；旋转所述的基底夹具，移开活动挡板，开始沉积薄膜，直至达到所需的薄膜厚度。实验证明用本发明方法所镀制的氧化锌薄膜的紫光发射增强，其他可见区的发光受到抑制。
基本信息
专利标题 ：
紫光发射增强的氧化锌薄膜的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1752272A
申请号 ：
CN200510031024.4
公开（公告）日 ：
2006-03-29
申请日 ：
2005-10-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
方明洪瑞金贺洪波易葵邵建达
申请人 ：
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 ：
201800上海市800－211邮政信箱
代理机构 ：
上海新天专利代理有限公司
代理人 ：
张泽纯
优先权 ：
CN200510031024.4
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/08 C23C14/54 C23C14/58
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2008-05-28 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-05-24 ：
实质审查的生效
2006-03-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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