碳纳米管场发射体及其制备方法
发明专利更正
摘要

本发明涉及一种碳纳米管场发射体及其制备方法,该制备方法包括步骤:提供一碳纳米管阵列,其生长在一基体上,该碳纳米管阵列包括与基体接触的根部及相对远离基体的顶部;提供一阴极基底,其包括基底本体及形成在该基底本体上的粘结剂层;将该碳纳米管阵列的顶部与粘结剂层接触,使碳纳米管阵列与阴极基底形成电接触;固化该粘结剂层,使该碳纳米管阵列与该阴极基底结合牢固;去除该基体以露出该碳纳米管阵列的根部,以获得一碳纳米管场发射体。本发明通过将碳纳米管阵列反粘在阴极基底上,以使碳纳米管阵列的位于同一平面的根部作为碳纳米管场发射体的发射端,其制备工艺简单、成本低,且碳纳米管场发射体具有较佳场发射均匀性。

基本信息
专利标题 :
碳纳米管场发射体及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1959896A
申请号 :
CN200510101025.1
公开(公告)日 :
2007-05-09
申请日 :
2005-11-04
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
柳鹏姜开利刘锴范守善
申请人 :
清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
申请人地址 :
100084北京市海淀区清华大学物理系
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200510101025.1
主分类号 :
H01J9/02
IPC分类号 :
H01J9/02  H01J1/304  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J9/00
专用于制造放电管、放电灯及其部件的设备和方法;从放电管或灯回收材料
H01J9/02
电极或电极系统的制造
法律状态
2011-06-22 :
发明专利更正
卷 : 27
号 : 13
页码 : 扉页
申请号 : 2005101010251
更正项目 : 专利权人|地址|共同专利权人
误 : 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司|518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号
正 : 清华大学|100084 北京市海淀区清华大学物理系|鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
2011-06-22 :
发明专利更正
发明专利公报更正号牌文件类型代码 : 1608
号牌文件序号 : 101106702725
卷 : 27
号 : 13
页码 : 无
申请号 : 2005101010251
IPC(主分类) : H01J0009020000
修正类型代码 : 无
更正项目 : 专利权人|地址|共同专利权人
误 : 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司|518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号
正 : 清华大学|100084 北京市海淀区清华大学物理系|鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
2011-03-30 :
授权
2007-07-04 :
实质审查的生效
2007-05-09 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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