一种研磨垫整理器的修正盘循环利用方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明公开了一种研磨垫整理器的修正盘循环利用方法,它可以重复利用研磨垫整理器的修正盘,降低生产成本。所述修正盘包括本体以及附着于本体上的表面钻石,在研磨到设定条件时,采用打磨法或喷沙法,使表面钻石的表面变为不规则的棱角。所述的打磨法:首先选用合适的粘性材料,将工业用钻石粉末固定在载体上,然后用人工或机器的方法,保证一定的压力的情况下,使所述工业用钻石粉末和所述的表面钻石进行一定强度的相互间的机械摩擦;所述的喷沙法:首先将工业用钻石粉末作为研磨介质放入工业用喷沙设备中,然后将所述工业用钻石粉末以高速对表面钻石进行喷射撞击。

基本信息
专利标题 :
一种研磨垫整理器的修正盘循环利用方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1978138A
申请号 :
CN200510111279.1
公开(公告)日 :
2007-06-13
申请日 :
2005-12-08
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王贝易王海军
申请人 :
上海华虹NEC电子有限公司
申请人地址 :
201206上海市浦东新区川桥路1188号
代理机构 :
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 :
丁纪铁
优先权 :
CN200510111279.1
主分类号 :
B24B53/02
IPC分类号 :
B24B53/02  B24B37/04  H01L21/304  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B53/00
用于修整或调节研磨表面的装置或工具、
B24B53/02
磨具上的平面的
法律状态
2009-08-26 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-08-08 :
实质审查的生效
2007-06-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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