表面形貌图的暗点区域的修补方法
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摘要

一种表面形貌图的暗点区域的修补方法,表面形貌图是以白光干涉的形貌测量方法测量,形貌测量方法是以宽频光源照射一待测物体表面与一参考面,并以一定步幅改变所述的待测物体表面与所述的参考面的相对距离,以产生一系列的干涉影像,相对于所述的表面形貌图的各个像素,分别产生一高度值对应于光强度的干涉图谱,其特征在于,所述的修补方法至少包括下列步骤:依据所述的干涉图谱,确认所述的干涉图谱所对应的像素是否是暗点;标示所述的暗点;以及利用所述的暗点周围的正常像素修补所述的暗点。本发明可以有效修补暗点,不会有如传统修补方法中因欠缺暗点区域的位置与特性的相关数据,而产生导致暗点修补效果不佳的问题。

基本信息
专利标题 :
表面形貌图的暗点区域的修补方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1959338A
申请号 :
CN200510117061.7
公开(公告)日 :
2007-05-09
申请日 :
2005-10-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
林耀明张宏彰
申请人 :
致茂电子股份有限公司
申请人地址 :
台湾省桃园县
代理机构 :
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 :
任默闻
优先权 :
CN200510117061.7
主分类号 :
G01B11/24
IPC分类号 :
G01B11/24  H01L21/66  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2008-08-27 :
授权
2007-07-04 :
实质审查的生效
2007-05-09 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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