太阳能电池及太阳能电池的制造方法
授权
摘要
本发明公开了一种太阳能电池，其包括形成在硅基板(1)的光接收表面上的钝化膜(2)和形成在该钝化膜(2)上的抗反射膜(3)，其中该钝化膜(2)的折射率高于抗反射膜(3)的折射率。还公开了制造这样的太阳能电池的方法。在该太阳能电池中，钝化膜(2)和抗反射膜(3)均可以由氮化硅膜构成。
基本信息
专利标题 ：
太阳能电池及太阳能电池的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101044630A
申请号 ：
CN200580035580.7
公开（公告）日 ：
2007-09-26
申请日 ：
2005-10-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
伊坂隆行安彦义哉殿村嘉章
申请人 ：
夏普株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200580035580.7
主分类号 ：
H01L31/04
IPC分类号 ：
H01L31/04
法律状态
2010-01-20 ：
授权
2007-11-21 ：
实质审查的生效
2007-09-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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