含金属离子的CMP组合物及使用该组合物的方法
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要
本发明提供一种化学－机械抛光组合物，其包含研磨剂，具有等于或高于3kcal/mol的M－O－Si键能的金属离子(M)，及水。本发明还提供一种使用上述化学－机械抛光组合物抛光基板的方法。
基本信息
专利标题 ：
含金属离子的CMP组合物及使用该组合物的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101044220A
申请号 ：
CN200580036003.X
公开（公告）日 ：
2007-09-26
申请日 ：
2005-10-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
菲利浦·卡特
申请人 ：
卡伯特微电子公司
申请人地址 ：
美国伊利诺伊州
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
宋莉
优先权 ：
CN200580036003.X
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 C09K3/14 H01L21/321
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2021-08-03 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : C09G 1/02
变更事项 : 专利权人
变更前 : 卡伯特微电子公司
变更后 : CMC材料股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国伊利诺伊州
变更后 : 美国伊利诺伊州
变更事项 : 专利权人
变更前 : 卡伯特微电子公司
变更后 : CMC材料股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国伊利诺伊州
变更后 : 美国伊利诺伊州
2013-03-13 ：
授权
2007-11-21 ：
实质审查的生效
2007-09-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
