呈曲面的化学机械抛光垫修整器及其相关方法

专利申请权、专利权的转移

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摘要

本发明揭露并描述了在修整CMP抛光垫过程中增加位于中央的研磨颗粒(310)修整工作负荷的CMP抛光垫修整器，以及其相关方法。位于中央的颗粒(310)工作负荷的增加改善了抛光垫修整效能，也延长了抛光垫修整器的使用寿命。

基本信息

专利标题：

呈曲面的化学机械抛光垫修整器及其相关方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101068654A

申请号：

CN200580040984.5

公开（公告）日：

2007-11-07

申请日：

2005-09-28

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

宋健民

申请人：

宋健民

申请人地址：

台湾省台北县

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

黄健

优先权：

CN200580040984.5

主分类号：

B24B21/18

IPC分类号：

B24B21/18

相关图片

IPC结构图谱

B部——作业；运输

B24

磨削；抛光

B24B

用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给

B24B21/00

使用磨削或抛光带的机床或装置；以及附件

B24B21/18

附件

法律状态

2022-01-11 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移IPC(主分类) : B24B 21/18
登记生效日 : 20211230
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 台湾中国砂轮企业股份有限公司
变更后权利人 : 鸿记工业股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国台湾新北市莺歌区中山路64号
变更后权利人 : 中国台湾新北市莺歌区福安街7巷3号

2022-01-11 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移IPC(主分类) : B24B 21/18
登记生效日 : 20211230
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 宋健民
变更后权利人 : 台湾中国砂轮企业股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国台湾台北县
变更后权利人 : 中国台湾新北市莺歌区中山路64号

2010-09-08 ：

授权

2008-01-02 ：

实质审查的生效

2007-11-07 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

CN101068654A.PDF

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2、

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