用于化学机械抛光的修整装置、方法及化学机械抛光系统
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种用于化学机械抛光的修整装置、方法及化学机械抛光系统，所述修整装置包括固定座、摆臂和修整器，所述修整器设置于摆臂的端部并绕固定座摆动；所述修整器包括可旋转的修整头，所述修整头包括连接盘、承载盘和修整盘，所述连接盘的至少一部分具有弹性，所述承载盘铰接于连接盘的下方，承载盘的下方固定有所述修整盘，以实现所述修整盘的自适应倾斜和/或移动。
基本信息
专利标题 ：
用于化学机械抛光的修整装置、方法及化学机械抛光系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114536220A
申请号 ：
CN202210442761.7
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2022-04-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王春龙许振杰陈映松路新春王同庆
申请人 ：
华海清科股份有限公司
申请人地址 ：
天津市津南区咸水沽镇聚兴道11号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202210442761.7
主分类号 ：
B24B53/017
IPC分类号 ：
B24B53/017 B24B57/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B53/00
用于修整或调节研磨表面的装置或工具、
B24B53/017
用于修整、清洁或者调节研具的设备或装置
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 53/017
申请日 : 20220426
申请日 : 20220426
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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