一种用于化学机械抛光的修整器和化学机械抛光装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于化学机械抛光的修整器和化学机械抛光装置，修整器包括基座组件、传动轴和修整组件，所述传动轴同轴设置于所述基座组件内，所述修整组件设置于所述基座组件下侧并随所述传动轴转动；所述基座组件包括基座，所述基座为中部开孔的环状结构；所述环状结构的内设置有磁敏传感器，所述修整组件内设置有磁铁，所述磁敏传感器检测所述磁铁形成的磁场的磁感应强度以测量修整组件相对于基座组件的位置。
基本信息
专利标题 ：
一种用于化学机械抛光的修整器和化学机械抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020682193.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-29
授权号 ：
CN212240605U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
许振杰王春龙
申请人 ：
华海清科股份有限公司
申请人地址 ：
天津市津南区咸水沽海河科技园聚兴道9号8号楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020682193.4
主分类号 ：
B24B53/017
IPC分类号 ：
B24B53/017 B24B37/005
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B53/00
用于修整或调节研磨表面的装置或工具、
B24B53/017
用于修整、清洁或者调节研具的设备或装置
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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