一种具有可控磁场的脉冲激光沉积制膜系统

专利权的终止

摘要

本发明涉及一种具有可控磁场的脉冲激光沉积系统，该系统为在传统PLD设备基础上加一套外加强磁场装置，包括：所述的真空室设置成侧壁有一凸出腔，在该凸出腔内安装所述的靶组件和所述的基片加热器；所述的石英玻璃窗口设置在凸出腔上方；还包括一套电磁铁组件，该组件的电磁铁线圈放置在真空室凸出腔外侧，两铁芯磁极通过密封法兰环接到腔内基片加热器的两侧，电磁铁通过控制电源和计算机相连；基片加热器和靶组件与电磁铁的铁芯非接触。本发明装置结构简单，易操作。能容易的在薄膜生长或退火过程中外加可控强磁场，实现传统PLD所不能生长的薄膜。为制备研究新型特殊结构的薄膜样品提供了有效的实验装置。

基本信息

专利标题：

一种具有可控磁场的脉冲激光沉积制膜系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101003890A

申请号：

CN200610001808.7

公开（公告）日：

2007-07-25

申请日：

2006-01-20

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

宁廷银周岳亮赵嵩卿王淑芳韩鹏程波林金奎娟吕惠宾陈正豪何萌刘知韵杨国桢

申请人：

中国科学院物理研究所

申请人地址：

100080北京市海淀区中关村南三街8号

代理机构：

北京泛华伟业知识产权代理有限公司

代理人：

高存秀

优先权：

CN200610001808.7

主分类号：

C23C14/28

IPC分类号：

C23C14/28 C23C14/35