一种可加电场的脉冲激光沉积制膜系统
专利权的终止
摘要

本发明涉及一种可加电场的脉冲激光沉积制膜系统,该系统为在传统PLD设备的基片加热器后方加一套强电场装置,该强电场装置有两个金属板电极,分别放置于两“凹”形陶瓷块的凹槽中,两陶瓷块垂直放置于一陶瓷固定片,并且互相平行固定在陶瓷固定片上;陶瓷块的凹槽一侧打一导线通孔,套有陶瓷管的导线从金属板电极上穿出导线通孔,与一个电阻和变压器电源相连,组成整个电路系统。该装置结构简单。利用本发明装置生长出的薄膜能显著改变微结构,进一步改变薄膜的性能。为制备研究新型特殊结构的薄膜样品提供了有效的实验装置。

基本信息
专利标题 :
一种可加电场的脉冲激光沉积制膜系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101003891A
申请号 :
CN200610001809.1
公开(公告)日 :
2007-07-25
申请日 :
2006-01-20
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
宁廷银周岳亮赵嵩卿王淑芳韩鹏程波林金奎娟吕惠宾陈正豪何萌刘知韵杨国桢
申请人 :
中国科学院物理研究所
申请人地址 :
100080北京市海淀区中关村南三街8号
代理机构 :
北京泛华伟业知识产权代理有限公司
代理人 :
高存秀
优先权 :
CN200610001809.1
主分类号 :
C23C14/28
IPC分类号 :
C23C14/28  C23C14/54  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
法律状态
2013-03-27 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101416718128
IPC(主分类) : C23C 14/28
专利号 : ZL2006100018091
申请日 : 20060120
授权公告日 : 20090812
终止日期 : 20120120
2009-08-12 :
授权
2007-09-19 :
实质审查的生效
2007-07-25 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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