本发明公开了一种可真空原位监测激光工艺参数的激光脉冲沉积系统及方法，该系统包括脉冲激光光源、光路结构、真空原位激光能量监测模块和真空沉积模块；真空沉积模块包括真空腔室，其设置有入射筒，入射筒一端与真空腔室连通，另一端设置有入射窗；脉冲激光光源发出的激光经光路结构，通过入射窗和入射筒入射至真空腔室内；真空原位激光能量监测模块用于按照需求监测激光工艺参数。本发明通过真空线缆贯穿件和磁力传递杆控制真空腔室内能量监测探头原位监测真空内激光能量、频率、波长、平均功率等工艺参数，保证相同体系加工在不同时间和批次加工过程中激光保持相同的真空内能量，实现对外延薄膜的稳定可靠加工和工艺稳定性。