本申请涉及一种OVD沉积工艺的生产系统及OVD沉积工艺，光棒夹持装置组设于反应腔室内，并用于对芯棒进行夹持、旋转以及驱使芯棒在水平方向上做往复直线运动；多喷灯沉积设备组设于反应腔室内，且其沉积区域至少部分覆盖于芯棒；喷灯补料设备可移动地组设于反应腔室内，且其沉积区域至少部分覆盖于芯棒；测径装置可移动地组设于反应腔室内，并用于检测芯棒的外径；控制装置与光棒夹持装置、多喷灯沉积设备、喷灯补料设备和测径装置相连接，并用于控制光棒夹持装置、多喷灯沉积设备工作，以及根据测量的外径与设定外径分布标准曲线，控制喷灯补料设备工作。本申请可以解决相关技术中多喷灯的OVD工艺存在的光棒均匀性差问题。