用于真空处理装置的静电吸盘、具有该静电吸盘的真空处理装置...
专利权的终止
摘要
一种用于真空处理装置的静电吸盘，其包括：一个具有突起的主基板；一个形成于该主基板上的绝缘层；一个用于通过施加电能产生静电力的形成于该绝缘层上的静电层；以及一个形成于该静电层上的介电层。这些突起可以具有各种形状，并且制造方法被简化和稳定化。此外，该静电吸盘有利于适应于大型基板。
基本信息
专利标题 ：
用于真空处理装置的静电吸盘、具有该静电吸盘的真空处理装置、及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1975998A
申请号 ：
CN200610002077.8
公开（公告）日 ：
2007-06-06
申请日 ：
2006-01-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
车勋严用铎
申请人 ：
IPS有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京中安信知识产权代理事务所
代理人 ：
张小娟
优先权 ：
CN200610002077.8
主分类号 ：
H01L21/683
IPC分类号 ：
H01L21/683
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2019-01-11 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 21/683
申请日 : 20060124
授权公告日 : 20090624
终止日期 : 20180124
申请日 : 20060124
授权公告日 : 20090624
终止日期 : 20180124
2016-08-24 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101737672093
IPC(主分类) : H01L 21/683
专利号 : ZL2006100020778
变更事项 : 专利权人
变更前 : 圆益IPS股份有限公司
变更后 : 圆益控股股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 韩国京畿道
变更后 : 韩国京畿道平泽市漆怪街78-40(芝制洞)
号牌文件序号 : 101737672093
IPC(主分类) : H01L 21/683
专利号 : ZL2006100020778
变更事项 : 专利权人
变更前 : 圆益IPS股份有限公司
变更后 : 圆益控股股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 韩国京畿道
变更后 : 韩国京畿道平泽市漆怪街78-40(芝制洞)
2016-08-24 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101737672094
IPC(主分类) : H01L 21/683
专利号 : ZL2006100020778
登记生效日 : 20160801
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 圆益控股股份有限公司
变更后权利人 : 圆益IPS股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 韩国京畿道平泽市漆怪街78-40(芝制洞)
变更后权利人 : 韩国京畿道平泽市振威面振威产团路75
号牌文件序号 : 101737672094
IPC(主分类) : H01L 21/683
专利号 : ZL2006100020778
登记生效日 : 20160801
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 圆益控股股份有限公司
变更后权利人 : 圆益IPS股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 韩国京畿道平泽市漆怪街78-40(芝制洞)
变更后权利人 : 韩国京畿道平泽市振威面振威产团路75
2012-02-15 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101280128329
IPC(主分类) : H01L 21/683
专利号 : ZL2006100020778
变更事项 : 专利权人
变更前 : IPS有限公司
变更后 : 圆益IPS股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 韩国京畿道
变更后 : 韩国京畿道
号牌文件序号 : 101280128329
IPC(主分类) : H01L 21/683
专利号 : ZL2006100020778
变更事项 : 专利权人
变更前 : IPS有限公司
变更后 : 圆益IPS股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 韩国京畿道
变更后 : 韩国京畿道
2009-06-24 ：
授权
2007-08-01 ：
实质审查的生效
2007-06-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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