基板固定装置、静电吸盘和静电吸盘的制造方法
公开
摘要
本发明提供一种基板固定装置、静电吸盘以及静电吸盘的制造方法，该基板固定装置包括：底板；以及静电吸盘，其固定至底板以通过静电力来吸附基板。静电吸盘包括：吸附层，其由陶瓷形成并且与基板接触以吸附并且保持基板；第一加热层，其形成在吸附层上并且包括第一电极；第二加热层，其形成在第一加热层上并且包括第二电极；以及导通部，其设置在第一电极和第二电极之间以将第一电极和第二电极彼此电连接。导通部包括主体部以及与主体部连接的端部。端部的直径大于主体部的直径。
基本信息
专利标题 ：
基板固定装置、静电吸盘和静电吸盘的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114496886A
申请号 ：
CN202111294422.0
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-11-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
竹元启一原山洋一浅川浩行六川贵博
申请人 ：
新光电气工业株式会社
申请人地址 ：
日本长野县
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙涛峰
优先权 ：
CN202111294422.0
主分类号 ：
H01L21/683
IPC分类号 ：
H01L21/683 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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