静电吸盘装置
授权
摘要
本发明提供能够适宜而且迅速地进行被处理基板的除电的静电吸盘装置，在支撑台(12)的表面静电吸附被处理基板(W)，构成包括面对支撑台(12)的表面的除电用电极(16)、除电用的接地电位(19)、连接在这些除电用电极(16)与接地电位(19)之间的除电用电阻(17)的除电电路，除电用电阻(17)的电阻比支撑台(12)表面的绝缘层(13)的电阻低，设定成能够在静电吸盘动作时保持被处理基板(W)的电位，在静电吸盘解除时使被处理基板(W)的电位向接地电位(19)逃逸的电阻值，根据该结构，能够适宜而且迅速地进行被处理基板(W)的除电。
基本信息
专利标题 ：
静电吸盘装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101278385A
申请号 ：
CN200580037607.6
公开（公告）日 ：
2008-10-01
申请日 ：
2005-10-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
藤井佳词
申请人 ：
株式会社爱发科
申请人地址 ：
日本神奈川
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
许海兰
优先权 ：
CN200580037607.6
主分类号 ：
H01L21/683
IPC分类号 ：
H01L21/683
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2011-10-12 ：
授权
2008-11-26 ：
实质审查的生效
2008-10-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN101278385A.PDF
PDF下载
2、
CN101278385B.PDF
PDF下载
