一种高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法
专利申请权、专利权的转移
摘要
一种X射线衍射光学元件—高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法,步骤如下:1.在自支撑X射线掩模衬基上淀积薄铬薄金层;2.在薄铬薄金层表面上甩电子束光刻胶,得到光栅图形;3.所得片子放在电镀液中电镀出X射线掩模吸收体金图形;4.所得片子去除电子束光刻胶;5.再去除电子束光刻胶图形下的薄铬薄金层;6.玻璃上旋涂聚酰亚胺,并固化;7.在聚酰亚胺表面上淀积金;8.在金表面旋涂X射线光刻胶,完成的高分辨率光栅X射线掩模进行X射线光刻并显影;9.对X射线光刻后的片子进行金去除;10.去除聚酰亚胺;11.去除X射线光刻胶;12.背面腐蚀透玻璃;完成高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作。
基本信息
专利标题 :
一种高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101017214A
申请号 :
CN200610003067.6
公开(公告)日 :
2007-08-15
申请日 :
2006-02-08
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
谢常青叶甜春
申请人 :
中国科学院微电子研究所
申请人地址 :
100029北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
段成云
优先权 :
CN200610003067.6
主分类号 :
G02B5/18
IPC分类号 :
G02B5/18 G03F7/20 G03F7/26
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2013-05-15 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101589404535
IPC(主分类) : G02B 5/18
专利号 : ZL2006100030676
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中国科学院微电子研究所
变更后权利人 : 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100029 北京市朝阳区北土城西路3号
变更后权利人 : 201203 上海市浦东新区张江路18号
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 中国科学院微电子研究所
登记生效日 : 20130422
号牌文件序号 : 101589404535
IPC(主分类) : G02B 5/18
专利号 : ZL2006100030676
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中国科学院微电子研究所
变更后权利人 : 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100029 北京市朝阳区北土城西路3号
变更后权利人 : 201203 上海市浦东新区张江路18号
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 中国科学院微电子研究所
登记生效日 : 20130422
2009-06-17 :
授权
2007-10-10 :
实质审查的生效
2007-08-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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