一种由阴离子型层状化合物制备铁氧体薄膜的方法

专利权的终止

摘要

本发明提供了一种由阴离子型层状化合物制备铁氧体薄膜的方法，属于铁氧体薄膜的制备技术领域。以M^IIFe^IIILDHs悬浆液为前驱体，采用涂敷技术在基片上制备得到了M^IIFe^IIILDHs复合薄膜，然后经干燥固化，最后高温焙烧得到铁氧体薄膜。本发明的优点在于：采用价格便宜、合成工艺简单、构造组分可调控的LDHs为起始物质，通过焙烧实现LDHs向铁氧体薄膜材料的转化，获得颗粒均匀分散、致密、厚度在微米级、附着力好的系列铁氧体薄膜材料。

基本信息

专利标题：

一种由阴离子型层状化合物制备铁氧体薄膜的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1821169A

申请号：

CN200610011513.8

公开（公告）日：

2006-08-23

申请日：

2006-03-17

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

杨兰张英超段雪尹烈

申请人：

北京化工大学

申请人地址：

100029北京市朝阳区北三环东路15号

代理机构：

北京科大华谊专利代理事务所

代理人：

刘月娥

优先权：

CN200610011513.8

主分类号：

C04B35/26

IPC分类号：

C04B35/26