顺次多种等离子体处理碳纳米管薄膜表面形貌的方法
专利权的终止
摘要

一种微细加工技术领域的顺次多种等离子体处理碳纳米管薄膜表面形貌的方法。本发明用不同种刻蚀气体顺次对碳纳米管薄膜进行等离子体表面处理,具体为:先是一次或者多次使用化学反应性气体,对碳纳米管薄膜进行反应离子辅助等离子体处理;然后使用物理作用性气体,对碳纳米管薄膜进行等离子体表面处理。本发明能在完全无序排布的碳纳米管薄膜的基础上,使碳纳米管在薄膜表面的露出高度、密度得到调制,经过处理后的碳纳米管薄膜的表面形貌,露出高度、密度均匀,有很好的垂直取向性。本发明可极大地优化薄膜表面质量,并完全兼容于各种基于微电子加工技术,适于加工实现阵列化设计和批量生产。

基本信息
专利标题 :
顺次多种等离子体处理碳纳米管薄膜表面形貌的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1807359A
申请号 :
CN200610023239.6
公开(公告)日 :
2006-07-26
申请日 :
2006-01-12
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
侯中宇蔡炳初张亚非徐东
申请人 :
上海交通大学
申请人地址 :
200240上海市闵行区东川路800号
代理机构 :
上海交达专利事务所
代理人 :
王锡麟
优先权 :
CN200610023239.6
主分类号 :
C04B41/53
IPC分类号 :
C04B41/53  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C04
水泥;混凝土;人造石;陶瓷;耐火材料
C04B
石灰;氧化镁;矿渣;水泥;其组合物,例如:砂浆、混凝土或类似的建筑材料;人造石;陶瓷;耐火材料;天然石的处理
C04B41/00
砂浆、混凝土、人造石或陶瓷的后处理;天然石的处理
C04B41/53
包括从被处理的制品上除去部分材料
法律状态
2011-03-23 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101059488659
IPC(主分类) : C23C 16/513
专利号 : ZL2006100232396
申请日 : 20060112
授权公告日 : 20070613
终止日期 : 20100212
2007-06-13 :
授权
2006-09-20 :
实质审查的生效
2006-07-26 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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