用于清洗化学机械平坦化的研磨垫的水性清洗组合物
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明是一种用于化学机械平坦化的研磨垫的水性清洗组合物，其具有一介于7至14之间的pH值并包含一以该组合物的总重计含量为0.1～20重量％的有机二质子酸、一以该组合物的总重计含量为0.1～20重量％且在水性介质下可解离出四级胺离子的有机碱，以及一与该有机二质子酸及有机碱合计含量为100重量％的水性介质，该水性清洗组合物不具腐蚀性与挥发性，配制方式简单，清洁效果佳而可倍增研磨垫的使用寿命，有助于业者降低耗材，设备，工时等各项成本，极富商业潜力。
基本信息
专利标题 ：
用于清洗化学机械平坦化的研磨垫的水性清洗组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101037645A
申请号 ：
CN200610058531.1
公开（公告）日 ：
2007-09-19
申请日 ：
2006-03-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
侯惠芳刘文政陈彦良陈瑞清
申请人 ：
长兴开发科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾高雄县台南科学工业园区南科高雄园区路竹乡路科八路2号
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN200610058531.1
主分类号 ：
C11D7/26
IPC分类号 ：
C11D7/26 H01L21/304
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C11
动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛
C11D
洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收
C11D7/00
主要以非表面活性化合物为基料的洗涤剂组合物
C11D7/22
有机化合物
C11D7/26
含氧的
法律状态
2011-03-23 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101075701339
IPC(主分类) : C11D 7/26
专利申请号 : 2006100585311
公开日 : 20070919
号牌文件序号 : 101075701339
IPC(主分类) : C11D 7/26
专利申请号 : 2006100585311
公开日 : 20070919
2007-11-14 ：
实质审查的生效
2007-09-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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