用于化学机械研磨装置的研磨台间清洗装置
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种用于化学机械研磨装置的研磨台间清洗装置,包括底座、设置于底座上表面的凹槽,设置于凹槽内的第一喷嘴,设置于底座两端的第二喷嘴,以及第二喷嘴的供水液路,底座一端固定于化学机械研磨装置的十字金属轴,其中:凹槽靠近十字金属轴的一端延伸至底座的外壁,此端设置有第三喷嘴;凹槽远离十字金属轴的一端的侧壁上设置有第四喷嘴;底座内部设有第三喷嘴的供水液路和第四喷嘴的供水液路。本实用新型可以对研磨台间清洗装置的凹槽及凹槽内的喷嘴,以及化学机械研磨装置的十字金属轴进行在线清洗,提高了化学机械研磨装置的自清洁能力,可降低颗粒超标和制品划伤的可能性,提高制品的成品率。

基本信息
专利标题 :
用于化学机械研磨装置的研磨台间清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720144196.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-09-21
授权号 :
CN201079923Y
授权日 :
2008-07-02
发明人 :
牛晓翔瞿治军
申请人 :
上海华虹NEC电子有限公司
申请人地址 :
201206上海市浦东新区川桥路1188号
代理机构 :
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 :
蔡光亮
优先权 :
CN200720144196.7
主分类号 :
B24B37/04
IPC分类号 :
B24B37/04  B24B55/00  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置;附件
B24B37/04
适用于加工平面的
法律状态
2016-11-09 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101687165714
IPC(主分类) : B24B 37/04
专利号 : ZL2007201441967
申请日 : 20070921
授权公告日 : 20080702
终止日期 : 20150921
2014-02-12 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101690498986
IPC(主分类) : B24B 37/04
专利号 : ZL2007201441967
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 上海华虹NEC电子有限公司
变更后权利人 : 上海华虹宏力半导体制造有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201206 上海市浦东新区川桥路1188号
变更后权利人 : 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
登记生效日 : 20140113
2008-07-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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