化学机械研磨机台的清洗装置

专利权的终止

摘要

本实用新型提供一种化学机械研磨机台的清洗装置，包括驱动装置，隔板，刷子，连接驱动装置和刷子的转动轴，隔板位于驱动装置和刷子中间，且隔板上设有通孔，其中，该机台还包括一个弹性防护膜，其设置在隔板表面。与现有技术相比，本实用新型中的弹性防护膜可以将刷子和驱动装置隔开，有效地防止皮带的颗粒和轴承的油污颗粒孔污染到刷子和晶片，提高晶片的良率。同时，能有效地防止化学品液体就可能穿过孔污染到皮带和轴承，造成轴承和皮带寿命的减少，从而提高机台的可使用率。

基本信息

专利标题：

化学机械研磨机台的清洗装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200620049080.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2006-12-15

授权号：

CN200984567Y

授权日：

2007-12-05

发明人：

陈肖科

申请人：

中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

申请人地址：

201203上海市张江路18号

代理机构：

上海智信专利代理有限公司

代理人：

王洁

优先权：

CN200620049080.0

主分类号：

B08B1/04

IPC分类号：

B08B1/04 B08B13/00