水基抛光垫及其制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供一种化学机械抛光垫，该抛光垫包含其中分散着微球体的聚合物基质，该聚合物基质由水基聚合物或其混合物形成。本发明提供一种缺陷减少、抛光性能获得改进的水基抛光垫。
基本信息
专利标题 ：
水基抛光垫及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1830627A
申请号 ：
CN200610059557.8
公开（公告）日 ：
2006-09-13
申请日 ：
2006-03-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
C·H·杜翁D·B·詹姆斯
申请人 ：
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请人地址 ：
美国特拉华州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
沙永生
优先权 ：
CN200610059557.8
主分类号 ：
B24D13/14
IPC分类号 ：
B24D13/14 B24D18/00 B24B29/00 H01L21/304
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24D
磨削、抛光或刃磨用的工具
B24D13/00
具有挠性作用的工作部分的轮，如抛光轮；及其固定件
B24D13/14
用其前面作用的
法律状态
2011-01-19 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101063086858
IPC(主分类) : B24D 13/14
专利申请号 : 2006100595578
公开日 : 20060913
号牌文件序号 : 101063086858
IPC(主分类) : B24D 13/14
专利申请号 : 2006100595578
公开日 : 20060913
2006-11-08 ：
实质审查的生效
2006-09-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
