与外涂的光刻胶一起使用的涂层组合物
授权
摘要
本发明提供一种有机涂层组合物，该有机涂层组合物包括增透涂层组合物，能够减少将曝光辐射自基片反射回外涂的光刻胶层的反射和/或作为平面化层或通路填充层。本发明优选的组合物包含不会在平版印刷处理过程中从组合物涂层中升华或发生其它迁移的交联剂组分。
基本信息
专利标题 ：
与外涂的光刻胶一起使用的涂层组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1847982A
申请号 ：
CN200610067929.1
公开（公告）日 ：
2006-10-18
申请日 ：
2006-03-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·赞皮尼E·K·帕夫奇克
申请人 ：
罗门哈斯电子材料有限公司
申请人地址 ：
美国马萨诸塞州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
徐迅
优先权 ：
CN200610067929.1
主分类号 ：
G03F7/09
IPC分类号 ：
G03F7/09 G03F7/16 G03F7/004 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
法律状态
2012-03-28 ：
授权
2006-12-13 ：
实质审查的生效
2006-10-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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