本实用新型涉及应用于光刻工艺中的光刻胶涂敷装置，具体为一种轨道式匀胶显影设备用胶泵，包括在管路上依次设置的隔膜泵、通断阀、回吸阀，隔膜泵与胶瓶连通，回吸阀与出胶口连通。本实用新型用气控隔膜泵配合通断阀和回吸阀来完成整个的吸胶打胶工作，能够顺利的完成喷胶－关断－回吸功能，控制模块和胶泵模块能够可靠的相互连接、协调完成工作，在达到使用性能的前提下大大的降低了生产成本，实现了胶泵的国产化。本实用新型胶泵系统主要适用于半导体生产领域。