在半导体装置制造中定位次分辨率辅助特征
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

一种操作计算系统(30)以确定标度线数据的方法。所述标度线数据用于完成用于将图像投射到半导体晶片的标度线(20)。所述方法接收包括所需电路层布局的电路设计层数据(341),且所述布局包含多个线路。所述方法还在所述多个线路中标识第一线路部分以用作第一电路功能且标识第二线路部分以用作不同于所述第一电路功能的第二电路功能。所述第一线路部分平行且毗邻于所述第二线路部分。所述方法还将所述标度线数据提供于输出数据文件(343)中以用于形成所述标度线上的特征。所述方法还指示用于在所述标度线上形成第一及第二主特征以及至少一个辅助特征的参数,所述辅助特征具有在所述第一主特征与所述第二主特征之间的区域,其中在使用所述标度线以用于将所述图像投射到所述半导体晶片中,与所述第二主特征相比,所述区域将给予所述第一主特征更大的

基本信息
专利标题 :
在半导体装置制造中定位次分辨率辅助特征
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101164070A
申请号 :
CN200680013587.3
公开(公告)日 :
2008-04-16
申请日 :
2006-02-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张国鸿肖恩·奥布赖恩
申请人 :
德州仪器公司
申请人地址 :
美国得克萨斯州
代理机构 :
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 :
刘国伟
优先权 :
CN200680013587.3
主分类号 :
G06F17/50
IPC分类号 :
G06F17/50  G03F1/00  G06F19/00  G21K5/00  
法律状态
2010-08-25 :
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件序号 : 101007037665
IPC(主分类) : G06F 17/50
专利申请号 : 2006800135873
公开日 : 20080416
号牌文件类型代码 : 1603
2008-06-11 :
实质审查的生效
2008-04-16 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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