改进型软研磨垫
专利权的终止
摘要

本实用新型提供了一种改进型软研磨垫,涉及化学机械研磨装置。现有的软研磨垫在粘贴到研磨平台上时,会在粘贴层出现大量气泡,较大的气泡会被研磨头刮破,从而导致芯片划伤。本实用新型的改进型软研磨垫,其表面具有大小相等、均匀分布的凸起的方格压纹,相邻方格压纹之间存在一定的间距,其中,所述的软研磨垫上还开设有数个孔洞,且每两个孔洞之间间隔1~200个方格压纹。采用本实用新型的改进型软研磨垫,可防止更换研磨垫时在粘贴层出现大量的气泡,从而避免芯片划伤、芯片破裂等问题的发生,此外,通过在软研磨垫中心位置开设窗口,还可实现某些制程终点侦测技术的应用。

基本信息
专利标题 :
改进型软研磨垫
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720067978.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-03-20
授权号 :
CN201049442Y
授权日 :
2008-04-23
发明人 :
王怀锋苏东风党国锋张智伟
申请人 :
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址 :
201203上海市张江路18号
代理机构 :
上海智信专利代理有限公司
代理人 :
王洁
优先权 :
CN200720067978.5
主分类号 :
B24D17/00
IPC分类号 :
B24D17/00  B24B29/00  H01L21/304  
法律状态
2017-04-26 :
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101716389305
IPC(主分类) : B24D 17/00
专利号 : ZL2007200679785
申请日 : 20070320
授权公告日 : 20080423
终止日期 : 无
2013-03-27 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101543796188
IPC(主分类) : B24D 17/00
专利号 : ZL2007200679785
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
变更后权利人 : 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201203 上海市张江路18号
变更后权利人 : 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道18号
登记生效日 : 20130222
2008-04-23 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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