湿制程设备的上压轮
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种湿制程设备的上压轮,供使用于一湿制程设备内,该上压轮包含一基底层与一包覆层,其中该基底层为具有相当弹性的硅胶,而该包覆层为抗腐蚀的塑料材,且该包覆层完整包覆该基底层的外围,据而通过该基底层所提供的弹性以及该包覆层所具有的抗腐蚀特性,其形成一种具有弹性且抗腐蚀的上压轮,该上压轮可用于湿制程设备内,由于其具有良好抗腐蚀的特性,因而可增加其使用寿命。

基本信息
专利标题 :
湿制程设备的上压轮
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820000173.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-01-09
授权号 :
CN201188162Y
授权日 :
2009-01-28
发明人 :
蔡祥祺张书省陈国全张钦渊佟晨瑜沈姿华
申请人 :
均豪精密工业股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾新竹县
代理机构 :
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 :
章社杲
优先权 :
CN200820000173.3
主分类号 :
G02F1/1333
IPC分类号 :
G02F1/1333  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
法律状态
2018-02-02 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : G02F 1/1333
申请日 : 20080109
授权公告日 : 20090128
2009-01-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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