正交结构型二维聚焦X射线组合透镜
专利权的终止
摘要

一种正交结构型二维聚焦X射线组合透镜,包括一个一级X射线组合透镜和一个二级X射线组合透镜共同组成,所述一级X射线组合透镜对X射线辐射实现垂直方向聚焦,所述二级X射线组合透镜对X射线辐射实现水平方向聚焦,一级X射线组合透镜与二级X射线组合透镜相互正交。入射X射线束首先射入所述一级X射线组合透镜,经所述一级X射线组合透镜沿垂直方向聚焦并出射后,射入所述二级X射线组合透镜再进行水平方向聚焦。

基本信息
专利标题 :
正交结构型二维聚焦X射线组合透镜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820081868.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-01-07
授权号 :
CN201199455Y
授权日 :
2009-02-25
发明人 :
乐孜纯董文
申请人 :
浙江工业大学
申请人地址 :
310014浙江省杭州市下城区朝晖六区
代理机构 :
杭州天正专利事务所有限公司
代理人 :
王兵
优先权 :
CN200820081868.9
主分类号 :
G21K1/06
IPC分类号 :
G21K1/06  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术;照射装置;γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置,如聚焦或慢化
G21K1/06
应用衍射、折射或反射,如单色仪
法律状态
2013-03-06 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101406519327
IPC(主分类) : G21K 1/06
专利号 : ZL2008200818689
申请日 : 20080107
授权公告日 : 20090225
终止日期 : 20120107
2009-02-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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